Grensesprengende teknologi for energi- og tidseffektiv produksjon av grafen

Bygging av prototype på produksjonsenhet for grafen, som skal lokaliseres i Stavangerområdet

Prosjekteier

Cealtech AS

Illustrasjon: Cealtech AS

Illustrasjon: Cealtech AS

Teknologileverandører

  • CealTech AS
  • California Institute of Technology (Caltech)
  • W&L Coating Systems GmbH

Teknologisk innovasjon

  • Bruk av plasma istedenfor varme til å igangsette prosessen (PECVD - Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition)
  • Med bruk av PECVD reduseres energi- og tidsbruk (manglende behov for oppvarming og nedkjøling)
  • Muliggjør masse produksjon av grafen uten bruk av kjemikalier og vesentlig mer energi- og tidseffektivt enn konvensjonell teknologi

Kompetanseutvikling

  • Kompetansebygging gjennom erfaringsdeling med samarbeidspartnere og kunder
  • Samarbeid med Universitetet i Stavanger om nye anvendelsesområder for teknologien
  • Utvikling av et kompetansemiljø innenfor denne type anlegg, herunder også drift og vedlikehold, bl.a. i samarbeid med AGA og Goodtech

Realisert spredning av teknologi

  • Første implementering globalt

Videre utvikling og videre spredning

  • Grafén har et stort anvendelsesområde innenfor materialteknikk og elektronikk
  • Teknologiutvikler planlegger å implementere teknologien i eget anlegg etter verifisering av teknologien i fullskala kontinuerlig produksjon, og anslår utvidelse av kapasiteten med omlag 1 maskin per år
  • Grafen vil være sentralt i utvikling av ny produkter som vil ha positive effekter på klimaet i tiden fremover, og det jobbes allerede med store globale aktører for å få til dette.
  • Potensiale nasjonalt og internasjonalt for spredning som kan gi energieffektivisering og reduserte utslipp av klimagasser